光致發光是半導體材料質量鑒定的一個重要手段，適合于測量不同襯底上生長的外延薄層，實驗數據采集和樣品制備簡單，是非破壞性的，非常方便。光致發光光譜取決于實驗樣品中非平衡載流子的輻射復合過程，與材料的能帶結構、缺陷狀況、摻雜水平等因素有關。所以，通過光致發光光譜可以了解樣品的能帶結構、發光機制等物理過程的信息，并反映出材料的質量狀況。由于光致發光光譜直接測量了樣品的發光強度，在相同的測量條件下，可以對不同的樣品的相對發光效率作出比對。而且作為研究半導體電子態的一種手段，光致發光的優點在于其靈敏度，尤其是它在光吸收實驗靈敏度差的頻段內有較高的靈敏度，二者可互為補充，并在半導體電子態研究中起重要作用。