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什么是雙折射現象一般的光學材料都是均勻的各向同性的，也就是說無論光從哪個方向穿過材料，其折射率都保持一致。對于單軸材料來說，例如方解石(Calcite)，其晶軸定義了材料的對稱軸。這類材料對光線的偏折能力隨入射光的偏振態及入射光與晶軸的夾角不同而不同。因此對于任意一束光，兩個正交的偏振態下可能存在不同的折射角。這種現象稱為光的雙折射。光線在雙折射材料中的折射總是遵循斯涅耳定律(Snell`sLaw)的，但是材料中的有效折射率與入射光的偏振態和入射方向與晶軸夾角相關。其中“尋常...

1、OpticStudio在雙折射材料中進行光線追跡時會追跡兩條光線，這兩條光線分別表示尋常光和非尋常光2、使用雙折射輸入面中的模式參數和多重結構功能可以分析任意偏振態光線的偏振追跡結果3、分析由2個雙折射晶體組成的偏振器件需要4個多重結構；分析由3個雙折射晶體組成的偏振器件需要8個多重機構，以此類推4、在計算多個結構光的總透過光強時需要計算光線振幅的疊加而不僅僅是光強的疊加

概述在OpticStudio的序列模式中，您可以在不影響其他面的情況下使用虛擬面(dummysurface)和求解類型：拾取(pickup)在透鏡數據編輯器(LDE)及布局圖(Layout)中顯示系統的入瞳和出瞳。這篇文章介紹了如何在透鏡數據編輯器中使用ZPL宏和主光線高度(ChiefRayHeight)求解厚度，以及如何在編輯器中隱藏虛擬面。介紹為了在透鏡數據編輯器和布局圖中顯示入瞳和出瞳面，我們需要在透鏡編輯器中插入虛擬面來模擬光瞳的位置。本文使用OpticStudio自...

偏振相關表面的應用在本節中我們會用實例介紹如何在OpticStudio中定義雙折射延遲器和光隔離器。1、光學延遲器光學延遲器（也稱作波片）可以改變輸入光的偏振態。本節中展示了如何構建一個λ/4相位變化的零級延遲器（也稱作四分之一波片），該器件可以將輸入的線偏光轉變為圓偏光。該系統中使用了雙折射晶體Quartz和氦氖激光（632.8nm）。通常情況下，波片引入的延遲可由下式表示：其中△n表示尋常光和非尋常光的折射率之差，λ表示光的波長，d表示晶體的長度，表示弧度表示的相位延遲，...

OpticStudio有多種分析模擬偏振光學器件的功能。這篇文章介紹了每種功能在建模時的特點和合適的使用環境。產生偏振光源所有OpticStudio中的偏振分析都需要定義輸入光的偏振態，通常情況下這些分析使用瓊斯向量(Jx,Jy)來表示X和Y方向上不同起始相位的偏振分量。在OpticStudio中有兩種輸入光偏振態的方法。種是在每個獨立的分析功能中設置明確的輸入偏振態（Jx,Jy,X/Y起始相位），例如偏振光線追跡(PolarizationRayTrace)和偏振光瞳圖(Po...

偏振相關介質的種類在OpticStudio中有多種可以改變輸入光偏振態的方法。這些方法引入了偏振相關的表面或材料。下面我們來介紹三種方法并描述它們在通常情況下的應用場景。1、瓊斯矩陣瓊斯矩陣表面是一個理想的面型并且默認輸入光為垂直入射。該表面使用2x2矩陣表示瓊斯向量（用來描述電場）如下式所示：其中A,B,C,D,Ex和Ey均為復值。該矩陣可以通過二維向量描述三維電場但前提假設是默認其傳播方向與Z軸重合。因此，電場分量只在XY平面。如果光線確實沿Z軸準直入射系統，則該表面可以...

概述這篇文章介紹了如何創建并使用包含自定義材料數據的材料庫。介紹在OpticStudio中材料數據以材料庫的形式進行管理，其中材料庫文件是擴展名為.AGF的ASCII文本文件。這些材料數據庫(MaterialCatalog)包含每一種材料的折射率、熱擾動、透過率等數據，其中許多材料庫是由供應商直接提供給Zemax的，例如schott.agf、ohara.agf、infrared.agf等等。需要注意的是在OpticStudio13及之前版本中材料數據庫的名稱為玻璃庫(Glas...

拉曼光譜在粉塵檢測領域的應用引言工作場所空氣中含有大于10%游離二氧化硅的粉塵俗稱矽塵，長期接觸矽塵會導致矽肺，這是我國為嚴重的職業病，職業性吸入結晶二氧化硅對人類具有致癌作用[1-4]。目前我國工作場所空氣中粉塵游離二氧化硅含量測定方法有三種[1]：焦磷酸法（重量法）、紅外分光光度法、X射線衍射法。焦磷酸質量法是現行使用的shou選方法，因使用設備簡單，易于操作而普遍采用，但該方法存在操作步驟繁瑣、耗時長和誤差不易控制等問題。紅外分光光度法通過測量其吸光度進行測量，只能應用...